背景
聚酰亞胺(PI)由于具有良好的耐熱穩(wěn)定性、優(yōu)良的透明性、極優(yōu)的絕緣性,可廣泛應(yīng)用于微電子及光電產(chǎn)業(yè),被稱為“黃金薄膜”。然而,傳統(tǒng) PI 薄膜由于分子間和分子內(nèi)的 CTC 作用,在可見光范圍內(nèi)具有強(qiáng)烈的吸收,呈現(xiàn)較深的顏色,限制了其在顯示領(lǐng)域的應(yīng)用。因此,制備耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜成為了顯示技術(shù)發(fā)展中關(guān)鍵的科學(xué)問(wèn)題之一。
傳統(tǒng)的 PI 一般為棕色或棕黃色的透明材料,這是由于 PI 分子結(jié)構(gòu)中存在較強(qiáng)的電子供體(二胺)和電子受體(二酐),在 PI 分子鏈內(nèi)或分子鏈間形成強(qiáng)烈的電荷轉(zhuǎn)移絡(luò)合物(CTC)作用,造成分子鏈緊密的堆積,使 PI 在可見光范圍內(nèi)具有強(qiáng)烈的吸收;且二胺和二酐殘余基團(tuán)的供電子和吸電子能力越強(qiáng),電荷轉(zhuǎn)移絡(luò)合物形成的程度就越大,越容易吸收光,PI 的顏色就越深,這嚴(yán)重限制了 PI 在光電工程領(lǐng)域的應(yīng)用。
合成方法
從分子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)出發(fā),需選用帶有弱吸電子基團(tuán)的二酐單體和弱給電子基團(tuán)的二胺單體,以降低分子鏈間電荷傳遞作用,從而制備耐高溫?zé)o色透明PI 薄膜。引入強(qiáng)電負(fù)性基團(tuán)、脂環(huán)結(jié)構(gòu)、大取代基團(tuán)、不對(duì)稱結(jié)構(gòu)和剛性非共平面結(jié)構(gòu)都有利于制備無(wú)色透明 PI。這些基團(tuán)的引入能夠降低分子鏈的有序性和對(duì)稱性,從而降低 PI 分子鏈的堆積,一定程度上增大分子鏈的空間自由體積,打亂鏈間的共軛作用,從而抑制或減少分子間或分子內(nèi)的電荷轉(zhuǎn)移絡(luò)合物的形成,降低 PI 在可見光區(qū)域的吸收,提升薄膜的透光率。
雖然 CTC 作用對(duì) PI 的光學(xué)性質(zhì)不利,但卻使得分子鏈間具有強(qiáng)的相互作用,限制了分子鏈的運(yùn)動(dòng),保證了 PI 出色的熱性能。有利于材料光學(xué)透明性的分子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)往往會(huì)在一定程度上降低材料的熱性能;而增加熱性能的結(jié)構(gòu)因素,例如剛性芳香族結(jié)構(gòu)、高度共軛結(jié)構(gòu),會(huì)帶來(lái)CTC效應(yīng),往往會(huì)損害材料的光學(xué)透明性。因此,為了得到透明耐高溫 PI,研究者們致力于尋找合適的分子設(shè)計(jì)以實(shí)現(xiàn)光學(xué)透明性和熱穩(wěn)定性的平衡。
1、引入強(qiáng)電負(fù)性基團(tuán)
強(qiáng)電負(fù)性基團(tuán)在一定程度上能夠降低 PI 分子鏈的堆積,增大鏈間自由體積,降低分子內(nèi)和分子間電荷轉(zhuǎn)移相互作用,提高 PI 薄膜的透明度。由于三氟甲基基團(tuán)具有較強(qiáng)的吸電子能力和較大的自由體積,在 PI 的結(jié)構(gòu)中引入含氟基團(tuán)可以降低分子內(nèi)和分子間電荷轉(zhuǎn)移相互作用,從而制備無(wú)色透明 PI 薄膜。
Liu 等設(shè)計(jì)合成了一種氟化芳香族二胺單體,3,3′-二異丙基-4,4′-二氨基二苯基-4″-三氟甲基甲苯(PAPFT),利用該單體與 ODPA、PMDA、BPDA、BTDA 和 6FDA 聚合得到的 PI 薄膜均可溶于 N,N- 二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、1-甲基吡咯烷酮、間甲酚、氯仿、丙酮中,截止波長(zhǎng)為 307~362 nm,可見光范圍內(nèi)的透光率超過(guò) 86%,玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為 261~331 ℃,1 MHz 下的介電常數(shù)達(dá)到了 2.75~3.10,接觸角為 87.3°~93.9°。
2、引入大取代基團(tuán)
在 PI 結(jié)構(gòu)中引入大體積取代基團(tuán),一方面能夠有效降低鏈間相互作用,增加鏈間距離,從而降低鏈堆積密度,另一方面大體積基團(tuán)可以阻礙電子流動(dòng)和分子鏈間的共軛作用和 CTC 形成的概率,從而提高材料的透明度和溶解性。同時(shí)大體積取代基團(tuán)的引入不會(huì)破壞分子鏈的剛性,在一定程度上保持了材料的熱性能。
Yi 等設(shè)計(jì)合成了帶有不同數(shù)量叔丁基側(cè)基的二胺單體 (3-叔丁基-4,4′-二氨基二苯醚和 3,3′-二(叔丁基)-4,4′-二氨基二苯醚,圖 6(a)),將其分別與商用二酐單體BPDA、ODPA、6FDA 和 BPADA 進(jìn)行共聚。制備的 PI 薄膜均具有良好的光學(xué)透過(guò)率,截止波長(zhǎng)在 350 nm 附近,最大透光率超過(guò) 90%,玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為 217~353 ℃。值得注意的是,隨著叔丁基含量的提高,薄膜的透光率和耐熱性都隨之提高。
雖然引入大體積取代基團(tuán)可以提高 PI 薄膜的透光率,但是大部分所得的聚合物薄膜仍然帶有一定的顏色,同時(shí)合成帶有大體積側(cè)基的單體較為困難,這就限制了它們的應(yīng)用。
3、引入脂環(huán)結(jié)構(gòu)
在傳統(tǒng) PI 中引入脂環(huán)結(jié)構(gòu)可以用來(lái)制備耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜,這是由于脂環(huán)結(jié)構(gòu)能夠破壞芳香族 PI 鏈段上的共軛結(jié)構(gòu),降低分子鏈間的相互作用力,增大鏈間自由體積,減少 CTC 的形成,從而提升 PI 薄膜的透明性和溶解度,同時(shí)也可以維持薄膜良好的耐熱穩(wěn)定性。
Hasegawa 等利用氫化均苯四甲酸二酐單體(1S,2R,4S,5R-環(huán)己烷四甲酸二酐(HPMDA)、1S,2S,4R,5R-環(huán)己烷四甲酸二酐(H′PMDA)和 1R,2S,4S,5R-環(huán)己烷四甲酸二酐(H″PMDA)(圖 5(a))這 3 種含脂環(huán)結(jié)構(gòu)的單體分別與一系列二胺單體進(jìn)行聚合,制備了多種脂環(huán)族 PI 薄膜。研究了分子結(jié)構(gòu)空間效應(yīng)對(duì) 3 種二酐單體聚合能力以及薄膜性能的影響,結(jié)果表明 H″PMDA 聚合能力最強(qiáng)。H″PMDA 不論與哪種二胺單體進(jìn)行聚合,制備的 PI 薄膜都接近無(wú)色,且具有良好的耐熱性和溶解性。例如,H″PMDA-ODA 型 PI 薄膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為 328 ℃,斷裂伸長(zhǎng)率達(dá)到 73%,并且具有優(yōu)異的溶液加工性能。
4、引入不對(duì)稱和剛性非共平面結(jié)構(gòu)
傳統(tǒng) PI 一般具有剛性對(duì)稱的分子結(jié)構(gòu),由于鏈間較強(qiáng)的 CTC 作用,分子鏈緊密堆積,賦予了 PI 良好的耐熱性、力學(xué)性能和耐溶劑性,但是規(guī)整的結(jié)構(gòu)一般會(huì)使其溶解性較差,給加工帶來(lái)很大問(wèn)題。在 PI 分子鏈上引入不對(duì)稱和剛性非共平面結(jié)構(gòu),能夠破壞分子鏈的對(duì)稱性,降低規(guī)整性,增加鏈間自由體積,賦予其良好的溶解性。此外,鏈間的共軛作用也會(huì)受到破壞,減少了 CTC 的形成,有利于制備透明 PI 薄膜。
Wang 等利用一種帶有芴結(jié)構(gòu)、三氟甲基和異丙基的二胺單體,9,9-雙(4-(4-氨基-2-三氟甲基苯氧基)- 3-異丙基苯基)芴),分別與 PMDA、BPDA、ODPA 和 6FDA 進(jìn)行聚合,制備具有高溶解度和低介電性的透明 PI 薄膜。得到的 PI 薄膜具有良好的溶解性,在室溫下能溶解于二氯甲烷、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺等溶劑。1 MHz 下的介電常數(shù)達(dá)到了 2.65,截止波長(zhǎng)為 326~363 nm,500 nm 處的透光率超過(guò)80%。該類薄膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度為 239~287 ℃。
5、引入無(wú)機(jī)納米粒子
引入可聚合的無(wú)機(jī)納米粒子也是一種在維持 PI 良好光學(xué)性能的同時(shí),提高其熱性能的方法。無(wú)機(jī)納米粒子一般具有剛性的內(nèi)核結(jié)構(gòu),這是它提高 PI 熱性能的主要原因,而帶有可聚合基團(tuán)的無(wú)機(jī)納米粒子,能夠均勻分散在 PI 分子鏈中,有效避免了無(wú)機(jī)物的團(tuán)簇,有利于得到透明性良好的PI薄膜。
為了提高 PI 薄膜的耐熱性能,Nam 等將帶有氨基封端的聚倍半硅氧烷(POSS)引入到 PI 體系中,制備了含 POSS 結(jié)構(gòu)的 PI 薄膜。這些 PI-POSS 薄膜展現(xiàn)出良好的透明性,截止波長(zhǎng)為 307~313 nm,400 nm 處的透光率超過(guò)了 91%,具有低的折射率(<1.558 9)和雙折射率(<0.002 5 at 637 nm)。相較于不含POSS 的 PI 薄膜,POSS 的封端以及 POSS 與 PI 之間形成的化學(xué)鍵顯著提高了材料的熱性能,加入 1% (質(zhì)量分?jǐn)?shù))POSS 的 PI 薄膜,其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度提升 10 ℃,熱膨脹系數(shù)下降 62%。
總結(jié)和展望
耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜在微電子及光電工程領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著柔性顯示技術(shù)的發(fā)展,對(duì)基板材料的綜合性能提出了更高的要求。能夠在基板加工過(guò)程耐受 300 ℃ 以上的高溫,并保持無(wú)色透明、尺寸穩(wěn)定以及良好的力學(xué)性能,這是制備顯示基板的基本要求。近年來(lái),關(guān)于耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜的研究也越來(lái)越多,從分子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)出發(fā),引入強(qiáng)電負(fù)性基團(tuán)、脂環(huán)結(jié)構(gòu)、大取代基團(tuán)、不對(duì)稱和剛性非共平面結(jié)構(gòu)是制備耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜的主要方法,此外,無(wú)機(jī)納米粒子的引入也可以在保持 PI 薄膜光學(xué)性能的同時(shí),提升薄膜的熱性能。
其中,制備耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜的關(guān)鍵問(wèn)題還是如何設(shè)計(jì) PI 分子結(jié)構(gòu)、 聚合物組分以及高分子凝聚態(tài)結(jié)構(gòu)來(lái)平衡熱性能和光學(xué)性能,這還需要科學(xué)家們不斷的探索和努力。智能電子設(shè)備的快速發(fā)展,也會(huì)刺激耐高溫?zé)o色透明 PI 薄膜的研發(fā)和消耗,如何通過(guò)合理的設(shè)計(jì),在降低制造成本的同時(shí),制備具有加工簡(jiǎn)單、無(wú)色透明、耐高溫、質(zhì)輕、柔性、可視性好以及使用壽命長(zhǎng)的 PI 基板材料仍是亟待解決的問(wèn)題。
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